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[半導体] 設備メンテナンス

スラリークリーンやスラリーチューブ洗浄剤などの洗浄剤、および新開発フッ素樹脂コーティング技術であるADコートなど、半導体設備のメンテナンスに関しても対応しています。

[半導体] 設備メンテナンス ラインナップ

CMP用洗浄剤 スラリークリーン

スラリークリーンはCMP装置周辺に飛散 ・ 固着したスラリーによる超微粒子皮膜を簡単に除去します。

※ 材料の一部が入手できなくなったため2021年12月末日をもちまして販売中止となりました。

CMPスラリーチューブ洗浄剤

YS-200は、CMPスラリーのチューブ内の堆積物を分散剤とビーズの作用で効率良く除去します。

YS-200は、酸やアルカリによる従来の薬液洗浄に比べて、短時間で洗浄を完了します。

※ 材料の一部が入手できなくなったため2021年12月末日をもちまして販売中止となりました。

フッ素樹脂コーティング技術

半導体製造業プロセスに新しい世界を拓く!!

新開発フッ素樹脂コーティング技術 ADコートは、一般的なフッ素樹脂コートの特性に加えてさらに優れた特長を有し、種々の形状や素材にコーティングできます。

新製品情報

2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
その他の新製品情報 >>

イベント情報

2022年9月20日〜23日
【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会(於:東北大学 川内キャンパス)
その他のイベント情報 >>

トピックス

2021年5月1日
関東営業所(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
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