レーザーアシスト基板加熱機構
本機構は、既存のヒーターによる裏面加熱に付加する形で基板の表面に直接レーザーを照射することで基板加熱をアシストします。
二つの加熱機構が熱の逃げを補い合うことで加熱能力を大きく向上させることが出来ます。
本機構は単体での高温焼き出しにももちろん使用できますが、より高い基板温度達成に悩んでいるお客様に「アシスト加熱」という新しいアイデアを提案いたします。
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