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真空薄膜形成装置 / 成膜装置
表面分析装置
真空搬送システム
真空部品・コンポーネント
その他各種取扱製品
関連技術情報
スパッタ装置
真空チャンバー内の原料ターゲットに電界で加速させたイオンを衝突させて表面原子（分子）を弾き飛ばすスパッタリング現象（Sputtering）を用いた薄膜形成装置です。
高融点材料や合金など、真空蒸着が困難な蒸着材料でも薄膜を作製することができるため、広範囲の材料に対して適用が可能であり、さらに半導体，液晶，磁気ディスクなどの高品質薄膜の作製も可能です。
新製品情報
- 2021年3月
- 【真空搬送システム】
クラスターシステム - 2020年2月
- 【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS - 2017年3月
- 【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
イベント情報
- 2022年9月20日〜23日
- 【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会（於：東北大学 川内キャンパス）
トピックス
- 2021年5月1日
- 関東営業所（埼玉県新座市）を移転しました。
- 2018年12月17日
- 茨城事業所（茨城県那珂市）を移転しました。
- 2013年10月31日
- 文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム（COI STREAM）」拠点に東京大学等と共に採択されました。
- 2011年4月15日
- 原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。