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PLD自動制御システム

TL-SFT

PLD自動制御システム

本システムは、パスカル製 PLD / レーザーMBE装置の基板加熱温度,ターゲット選択,ターゲット自転・揺動,コンビナトリアルマスク位置,基板回転などの制御に加え、アブレーションレーザーの発振なども同期制御が可能となっています。

これにより各機能のマニュアル制御のみならず成膜レシピをスクリプトとして作成・実行することで、一連の成膜プロセスを自動で行うことができます。

主な機能

  • 基板加熱温度制御
  • アブレーションレーザー発振制御
  • 集光レンズ位置制御
  • アッテネーター角度制御(レーザー照射強度調整)
  • ターゲット選択
  • ターゲット自転・揺動制御(ターゲット面内均一照射対応)
  • ターゲットZ軸制御
  • 基板回転・角度制御
  • 基板シャッター開閉制御
  • コンビナトリアルマスク位置制御
  • プロセス圧力・ガス流量制御(マスフローコントローラ自動調整)
  • モニター・ログ操作
  • CCD画像表示切替
  • 排気系操作(真空ポンプON/OFF,バルブ開閉およびベーキング制御:誤操作防止機能付き)
  • スクリプト編集・実行
メイン画面サブ画面
  • 注)装置構成やオプションにより、制御できる内容が異なります

新製品情報

2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
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イベント情報

2022年9月20日〜23日
【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会(於:東北大学 川内キャンパス)
その他のイベント情報 >>

トピックス

2021年5月1日
関東営業所(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
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