分子線セル（クヌーセンセル）
K-CELL
ルツボ内の原料をヒーターによって加熱・蒸発させることで、基板に分子線エピタキシー（Molecular Beam Epitaxy : MBE）蒸着させるための分子線セルです。
温度や原料，用途によってPBNや石英などのルツボ材質、タングステンやタンタルなどのヒーター材質を選択できます。
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真空薄膜形成装置 / 成膜装置
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真空部品・コンポーネント
その他各種取扱製品
関連技術情報
特長
- ガス放出の少ない材料を使用しています。
- 標準でシャッターが付きます。
- 出荷検査時、高温脱ガス処理を行い真空保管しておりますので、装置装着後の脱ガスの必要はありません。
主な仕様
| 昇温可能温度 | 最高1300℃（PBNルツボ） |
| 使用可能真空度 | 10-4 Pa 以下 |
| ルツボ容量 | 5〜100cc |
| ルツボ材質 | PBN，石英 |
| 取り付けフランジ | ICF70 〜 ICF152 |
| シャッター | 手動，自動 |
| 熱電対 | W/Re 5-26 |
| ヒーター材質 | タングステン，タンタル，他 |
その他の分子線セル
- クラッキングセル，ガスソースセル，イオン化セル・・・・他多数
オプション
- 加熱電源（PID制御，DC出力）
- 金，銀コーティングガスケット仕様
新製品情報
- 2021年3月
- 【真空搬送システム】
クラスターシステム - 2020年2月
- 【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS - 2017年3月
- 【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
イベント情報
- 2022年9月20日〜23日
- 【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会（於：東北大学 川内キャンパス）
トピックス
- 2021年5月1日
- 関東営業所（埼玉県新座市）を移転しました。
- 2018年12月17日
- 茨城事業所（茨城県那珂市）を移転しました。
- 2013年10月31日
- 文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム（COI STREAM）」拠点に東京大学等と共に採択されました。
- 2011年4月15日
- 原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。