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低速電子線回折装置(LEED)

低速電子線回折装置(LEED)

低速電子線回折装置(Low Energy Electron Diffraction : LEED)は、真空中で数eV〜数百eV程度の電子線を試料表面に垂直に入射させ、試料表面の結晶格子で回折した後方散乱図形を検出することで結晶表面の構造を調べる分析手法です。

LEEDで入射する電子線は試料表面から数nm程度しか侵入しないため表面状態に極めて敏感であり、主に結晶性,表面構造の情報が得られます。

また、真空装置と組み合わせた複合装置とした場合、トランスファーロッドで試料搬送することで、真空を破らず成膜直後の薄膜試料の表面分析が可能になります。

特長

  • 表面近傍の原子構造の解析が可能。
  • 分析深さ : 表面から数nm程度。

PLDとLEED・AESとの複合装置例

PLD-LEED-AES複合装置例

成膜チャンバー

  • スタンダードPLD ST-PLD

分析チャンバー

  • チャンバー寸法 : φ150mm×150mmH
  • 到達真空度 : 10-7Pa以下
  • サンプルステージ : X-Y-Z

新製品情報

2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
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イベント情報

2022年9月20日〜23日
【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会(於:東北大学 川内キャンパス)
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トピックス

2021年5月1日
関東営業所(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
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