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モバイルコンビレーザーMBE装置

MC-LMBE

モバイルコンビレーザーMBE装置

コンビができる、小さい、高機能、完全PC制御

本装置は超高真空環境において、合成石英窓を介して導入されたパルスレーザーの光をターゲットに照射して、対向する基板上に薄膜を堆積させるレーザーMBE装置です。 さらに、スキャニングRHEEDと2つのコンビナトリアルマスクを用いて、成長を原子レベルで制御しながら、一枚の基板上に異なる条件の試料を一括作製することが可能です。

コンビナトリアル成膜の概念は、一枚の基板上をマスキングによって複数の堆積領域に区画し、種々の成膜パラメータを系統的に変化させた薄膜を作製することにより、条件探索を短時間で行なうものです。 また、ロードロック室ユニットを標準装備しており、ターゲットや基板の交換を簡単に行なうことができます。

詳細仕様

1.成膜室

チェンバーサイズ φ260mm 球形 SUS304
真空到達度 6.7×10-7Pa以下(5×10-9Torr以下)
レーザー導入窓 ICF114 合成石英ビューポート
真空モニター
高真空ゲージ ICF70 UHVヌードイオンゲージ
プロセスゲージ ICF70 キャパシタンス・ダイヤフラムゲージ
真空排気系
主排気 ターボ分子ポンプ 250L/s
補助排気 ロータリーポンプ 237L/m
バルブ ICF152 手動ゲートバルブ
背圧モニター T/Cゲージ
ガス導入
バリアブルリークバルブ
大気圧導入バルブ
ターゲット自公転ユニット
ターゲット φ20mm×3mmt 6個
自転機構 ACモーター駆動 回転スピード制御可能
公転機構 ステッピングモーター駆動
半導体レーザー基板加熱ユニット
加熱方式 半導体レーザー加熱(チラー付)
808nm,120W
基板サイズ 10mm角
最高加熱温度 1,200℃以上
温度勾配 200℃以上の温度勾配が可能
温度モニター パイロメーター(180℃〜1400℃),CCDカメラにより加熱状態を観察可能
移動機構 Z : ±10mm
基板回転 ステッピングモーター式(センサー付)
コンビナトリアルマスクユニット
ショートマスク 0〜20mm ステッピングモーター駆動
ロングマスク 0〜160mm ステッピングモーター駆動
マスク位置観察 CCDカメラおよびLCD
スキャニングRHEED
RHEED電子銃 ICF34型(差動排気式) 
最大加速電圧 30kV(常用25kV)
ICF152用蛍光スクリーン
走査型スキャンコイル
差動排気 ターボ分子ポンプ 77L/s
画像処理システム CCDカメラ及び遮蔽Box
画像処理ソフトウェア(LabViewTM

2.ロードロック室

ロードロック室ユニット
形状 φ114mm×250mmt 円柱形 SUS304
到達真空度 6.7×10-5Pa(5×10-7Torr)
収納数 基板2枚 ターゲット4個
回転上下ステージ
サンプル取出 アクセスドア
真空モニター ICF70 UHVヌードイオンゲージ
主排気 ターボ分子ポンプ 77L/s
補助排気 ロータリーポンプ 160L/m
バルブ ICF114 手動ゲートバルブ
背圧モニター T/Cゲージ
トランスファーロッド 傾斜機構付トランスファーロッド

3.制御系

PLD自動制御システム
PCおよび制御ソフトウェアにより以下の自動制御が可能
・ 基板温度制御
・ レーザーのゲート・発振制御
・ ターゲット選択(レーザー発振との同期が可能)
・ ターゲット自転・揺動制御(ターゲット面内レーザー均一照射が可能)
・ 基板回転制御(基板角度指定も可能)
・ マスク移動制御/td>
・ 排気系制御(ポンプ操作)

4.ユーティリティー

電源 AC100V 1φ 50A
AC200V 3φ 50A
AC200V 1φ 10A
ガス導入口 N2,O2

※一次側のユーティリティーはお客様でご用意下さい。
性能向上等のため予告なく仕様を変更することがありますので予めご了承ください。

オプション

新製品情報

2015年7月
【その他各種取扱製品】
テラヘルツ発生・検出器 (光伝導アンテナ)
2013年10月
【真空部品】
アジレント社製 新型スクロールポンプ IDP-15
2013年7月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 304 FS
2010年9月
【表面分析装置】
飛行時間型原子散乱表面分析装置 TOFLAS-3000
2010年3月
【極低温冷凍機システム】
アクセスドア仕様 光学&電気測定用冷凍機システム 〔小型 4K GM CRYO COOLER〕
その他の新製品情報 >>

イベント情報

2017年9月5日〜8日
【併設展示】
第78回応用物理学会秋季学術講演会(於:福岡国際センター)

トピックス

2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2013年9月27日
原子散乱表面分析装置 に、関連技術情報3件を掲載しました。
2012年11月1日
茨城事業所(茨城県那珂市)を開設しました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
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